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IT之家·· 12 天前AI 评分52

余承东称国内正在研发EUV设备,现阶段仍依靠DUV

华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发

AI 导读

余承东表示,EUV设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发,现阶段仍依靠DUV。面对先进制程获取受限,华为采用系统工程方法优化整体性能,并称逻辑折叠是提升能力的方法之一。

来源:IT之家 · ithome.com