余承东称国内团队正在研发EUV光刻设备，量产芯片主流工艺仍依托DUV设备

余承东称，国内科研团队和产业伙伴目前正在攻坚研发EUV光刻设备；他表示，EUV是制造最顶尖先进芯片的关键设备。国内量产芯片的主流工艺路径目前仍依托已实现国产化的DUV光刻设备。