Gigaphoton 推出 hTGM 氖气回收系统，回收率称达 50%

日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出用于 ArF 准分子激光器的 hTGM 新型氖气回收系统，报道称回收率可达 50%。系统配置未来调整后有望进一步提升回收效率；报道还提到，2022 年前乌克兰供应全球半导体约 50% 的氖气，后续被迫停止出口。